明年基本工資調漲,企業陸續啟動調薪、提升福利,打造「幸福企業」吸引人才。半導體大廠艾司摩爾(ASML)除保障底薪14個月,還有5個月固定分紅;光陽工業則表示,預計明年調薪幅度將在3%以上。
彭博社報導,先進半導體製程不可或缺的 EUV 微影曝光設備,可說是現代工程奇蹟。荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的半導體設備,不但每套價值 1.5 億美元,更由 10 萬個零件組成,是生產個位數奈米級晶片的重要設備。只是一套 EUV 微影曝光設備每年耗電量達 1 兆瓦,是前幾代設備 10 倍,還沒有替代品的情況下,半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。
最近看到許多論戰,討論有關美國發動晶片戰爭後,對於台灣半導體業及台積電的衝擊,還有ASML是否拒絕配合美國政府對禁止光刻機輸出中國的政治施壓等。
EUV(極紫外光曝光機)大廠艾司摩爾(ASML)宣布,啟動「ASML 未來之星」徵才計畫,透過一系列校園招募活動、講座、參訪、獎學金、產學合作及企業實習和導師計畫,持續招募與培育台灣頂尖人才。
如何提高廢棄物減量,且同時提升產能與效率?隨著循環經濟生態系統日益成熟,「再利用(re-use)」為新型態的廢棄物減量打開了可能性。 ASML十多年前開始二手設備翻新、推動循環經濟生態系統,並承諾在2025年之前將來自客戶與工廠的退役機台,零件重複使用率提升到95%。截至2022年底,ASML的重複使用率已從2021年的85%,成長至2022年的87%。